КІНЕТИКА ДИСПЕРГУВАННЯ ПРИ ВІДПАЛІ У ВАКУУМІ НІОБІЄВИХ ТА ГАФНІЄВИХ НАНОПЛІВОК, НАНЕСЕНИХ НА НЕОКСИДНІ МАТЕРІАЛИ

Анотація

Досліджено кінетику диспергування ніобієвих та гафнієвих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1200—1400 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що інтенсивність диспергування сполучень плівка—неметал в однакових режимах відпалу різна. В наноплівках на кераміці на основі Si₃N₄ певні структурні зміни спостерігаються вже після відпалу при 1200 °С, а при температурі 1300 °С ці плівки вже значно диспергують, в той час як плівки на скловуглеці зазнають зміни лише після відпалу при 1400 °С.