Вакансійне розпухання хрому

Анотація

Розглянуто основні диференціальні рівняння, що описують кінетику накопичення вакансій і вакансійної пористості в матеріалах, опромінюваних потоками швидких частинок в ядерних реакторах або прискорювачах. Отримано феноменологічні співвідношення для розрахунку температурно-дозних залежностей вакансійного розпухання матеріалів в широкому інтервалі температур і доз опромінення. Представлено результати подібного розрахунку для малолегованого хрому при опроміненні в прискорювачі іонами Cr³⁺ і проведено порівняння з експериментальними даними.