ВИВЧЕННЯ КІНЕТИКИ ТА МЕХАНІЗМУ РОСТУ КРИСТАЛІЧНИХ СТРУКТУР НА ПОВЕРХНІ ВОЛЬФРАМОВИХ ДРОТІВ ЗА НОРМАЛЬНИХ УМОВ

Анотація

Вивчено закономірності формування та росту окремих кристалічних структур на поверхні вольфрамових дротів при атмосферному тиску на повітрі. Встановлено, що при температурі 980 К на поверхні вольфрамового дроту утворюються кристалічні структури, форма яких зі збільшенням часу окиснення та температури змінюється від ниткоподібної до дендритної. Визначено швидкість росту даних структур в повздовжньому та поперечному напрямах. Виявлено механізм утворення та росту кристалів оксиду вольфраму на окисненій поверхні при високих температурах. Доведено, що атоми вуглецю, які присутні на поверхні вольфрамового провідника, є центрами кристалізації триоксиду вольфраму із газової фази.