Вакансійне розпухання хрому
Анотація
Розглянуто основні диференціальні рівняння, що описують кінетику накопичення вакансій і вакансійної пористості в матеріалах, опромінюваних потоками швидких частинок в ядерних реакторах або прискорювачах. Отримано феноменологічні співвідношення для розрахунку температурно-дозних залежностей вакансійного розпухання матеріалів в широкому інтервалі температур і доз опромінення. Представлено результати подібного розрахунку для малолегованого хрому при опроміненні в прискорювачі іонами Cr3+ і проведено порівняння з експериментальними даними.
ВАКАНСІЙНЕ РОЗПУХАННЯ, ОПРОМІНЕННЯ МАТЕРІАЛІВ, ТЕМПЕРАТУРНО-ДОЗНІ ЗАЛЕЖНОСТІ, ФЕНОМЕНОЛОГІЧНІ СПІВВІДНОШЕННЯ
Математичні моделі і обчислювальний експеримент в матеріалознавстві - Київ: ІПМ ім.І.М.Францевича НАН України, 2011, #13
http://www.materials.kiev.ua/article/527