Проекція поверхні ліквідуса діаграми стану системи Аl2О3—HfO2—Gd2O3

 
М.С.Глабай,
 
В.В.Ткач,
  

Інститут проблем матеріалознавства ім. І. М. Францевича НАН України , вул. Омеляна Пріцака, 3, Київ, 03142, Україна
Сучасні проблеми фізичного матеріалознавства - Київ: ІПМ ім.І.М.Францевича НАН України, 2012, #21
http://www.materials.kiev.ua/article/2081

Анотація

Вперше побудовано проекцію поверхні ліквідуса діаграми стану системи Аl2О3—HfO2—Gd2O3 на площину концентраційного трикутника. Максимальна температура у вивченій системі становить 2820 °С і відповідає точці плавлення сполуки HfO2, мінімальна—1670 °С і відповідає трифазній евтектиці Al2O3 + F-HfO2 + GdAlO3 (E3). Нових фаз, а також помітних областей твердих розчинів у системі Аl2О3—HfO2—Gd2O3 не виявлено. Оскільки кристалізація в системі завершується евтектичними реакціями, це дозволяє реалізувати в мате¬ріалах потрійної системи унікальні властивості Т- та F-твердих розчинів на основі HfO2 у поєднанні із властивостями інших її фаз у вигляді композиційних матеріалів.


ДІАГРАМА СТАНУ, ДІОКСИД ГАФНІЮ, ЕВТЕКТИЧНІ МАТЕРІАЛИ, КЕРАМІКА, ОКСИД АЛЮМІНІЮ, ОКСИД ГАДОЛІНІЮ