Вплив умов осадження і відпалу на нанотвердість аморфних Si–C–N плівок

Анотація

Наведено експериментальні результати по тонких Sі–C–N-плівках, одержаних плазмохімічним методом із гексаметилдісилазану. Досліджено вплив потужности високочастотного газового розряду, кількости доданого до реактивної суміші азоту, зміщення на підкладкотримачеві, температури підкладкотримача та додаткового вакуумного відпалу на властивості плівок. Встановлено, що до зміни умов осадження найбільш чутливими виявилися нанотвердість (Н) та модуль Юнґа (Е) плівок. Із параметрів осадження найбільший вплив на величини Н та Е створюють температура підкладкотримача та зміщення на ньому. Збільшення кількости доданого азоту, зміщення та температури підкладкотримача сприяє підвищенню значень Н та Е, що пов'язане з ростом чисельности Si–C- і Si–N-зв'язків. При нарощуванні потужности розряду — усе навпаки: Н і Е зменшуються завдяки переважаючому впливу Si–О-зв'язків. За всіх умов осадження формується аморфна структура плівок, шерсткість поверхні яких порівнянна з шерсткістю поверхні кремнієвої підкладки. Високотемпературний відпал у вакуумі до 1000°С не впливає помітно на структуру, морфологію поверхні та величини Н і Е плівок.